
功效性真空鍍膜裝備 - 磁控濺射鍍膜機 - EMI屏障真空鍍膜機
裝備先容
電磁攪擾(EMI)屏障金屬器的操縱。
其余須要電磁攪擾屏障功效的行業
基(ji)板資料。ABS,PC,PC+ABS,塑料等。
EMI屏障膜特征
.薄膜厚度:1.5 ~ 3微米,取決于請求。
.薄膜電阻。(歐姆)優于0.5Ω
.附出力:3M810膠帶>5B
.EMI 屏障膜的涂覆工藝
.直流濺射不銹鋼
.熱蒸發法堆積銅
.直流濺(jian)射不銹鋼,完整籠(long)蓋在Cu膜層上。
裝備特色
1) 雙門布局和疾速的泵送速率,完成高出產率
2)用戶友愛的觸摸屏面板和PLC節制
3)用戶友愛的軟件法式設想,出產不變,品質高。
4) 濺射靶材操縱率高,確保出產本錢低。
5)杰出的平均性&優異的附出力
6)進步前輩的設想理念,以更好的機能來進步出產效力和品質率。
7) 離子源裝配用于等離子體洗濯和外表活性處置,進步附出力。
8) 經由(you)進程(cheng)Polycold-水蒸(zheng)氣(qi)(qi)高(gao)(gao)溫(wen)泵,高(gao)(gao)真空(kong)抽氣(qi)(qi)時候(hou)延長25%至(zhi)75%。在加工進程(cheng)中(zhong)下降水蒸(zheng)氣(qi)(qi)分壓,以取得更高(gao)(gao)的(de)薄膜品質,更好的(de)附出力和更多的(de)可反復的(de)堆積。
致誠真空科技:磁控濺射鍍膜機
| 裝備首要參數 | |
| 真空室尺寸: | Φ1000mm 、Φ1200mm 、Φ1400mm 、Φ1600mm 、Φ1800mm 、 Φ2000mm |
| 真空體系: | 旋片泵+羅茨泵+分散泵+保持泵(或選份子泵、深冷泵、深冷體系) |
| 極限真空: | 6x10-4Pa |
| 任務動彈體例 | 多軸行星式公自轉、變頻調速(可控可調) |
| 冷卻體例 | 水冷卻輪回體例,另配產業冷卻水塔或產業冷水機(制冷機)或深冷體系。(客戶供應) |
| 節制體例 | PLC+觸摸屏操縱或計較機節制,手動、半主動、主動體例 |
| 供應目標 | 氣壓0.5-0.8MPa、水溫≤25℃、水壓≥0.2MPa |
| 報警及掩護 | 對泵和靶等缺水、過流過壓、斷路等非常環境停止報警、并履行響應掩護辦法及電氣聯鎖功效 |
| 抽氣時候:: | 空載大氣抽至5x10-3Pa,>13min |
| 備注: | 以上裝備參數僅做參考,詳細均按客戶現實工藝請求設想定做 |
涂層案例


致誠科技
致誠科技國際搶先程度的鍍膜操縱處理計劃:供應裝備、資料、加工、手藝、名目配套等體系辦事
PVD工藝手藝接(jie)納在(zai)(zai)真空前提(ti)下(xia),經(jing)由進程蒸餾(liu)或濺射等體例(li)在(zai)(zai)工件外表堆積各類金(jin)屬(shu)和非金(jin)屬(shu)薄膜(mo)。
致誠科(ke)技按照產(chan)物的(de)特征婚配最好的(de)鍍膜(mo)工藝計劃(hua)。
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