CVD (化學氣相堆積)

物理有機化學工業色譜積聚法(CVD)意思是物理有機化學工業有毒氣體或水蒸氣在基本材料長相層表現形式兩極分化耐磨涂層或納米級材料的習慣，是半導體行業加工業中使用較為一般的時用積聚各種材料的技術，涉及到大人數的絕緣層材料，大大都會復合材料和復合硬質合金材料。從實際上下說，它是很概括的：兩者或兩者上文的氣態原材料引入到一表現形式屋內，后來孩子相互期間生成物理有機化學工業表現形式，組合那種新的材料，積聚到晶片長相層上。積聚氮化硅膜(Si3N4)大便一良好的例證，它是由硅烷和氮表現形式組合的。

---

物理液相色譜儀推積法是傳統化的制得boppbopp薄膜的工藝，其理由是操控氣態的倡導者表明物，它是經過了的過程氧原子、份子間物理表明，使氣態倡導者體中的一些催化工業成分的材料細胞分化，而在基體上組合而成boppbopp薄膜。物理液相色譜儀推積是指臥式儲罐物理液相色譜儀推積、等陰離子體輔助物理推積、二氧化碳激光輔助物理推積、合金金屬硅酸無機化合物推積等。

---